VNX55-HH 高硬度CEDI (连续电去离子) 膜堆
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VNX55-HH 高硬度CEDI (连续电去离子) 膜堆
产品详情
VNX55-HH 高硬度CEDI (连续电去离子) 膜堆
Ionpure® VNX55-HH大流量膜堆采用经过验证的连续电去离子 (CEDI) 技术生产高纯水
每个VNX55-HH膜堆的名义产水流量为10 m3/h (44 gpm)。通过在系统中并联多个VNX 55-HH膜堆可以使单套系统出力达到甚至超过 228 m3/h (1,000 gpm) 。
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采用Through-port垫片密封，可保证无泄漏，VNX55-HH 膜堆专为高硬度进qi水而优化。与其他的型号不同，它不需要使用酸/碱、中和系统或树脂罐。实际上，它的运行无需使用化学药剂，并可以达到90%的回收率。其他的规格参数包括：
| 硅 (SiO2) 去除率 | >90% |
| 钠离子(Na)去除率 | >99.5% |
| 氯离子去除率 | >99.8% |
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* 实际性能可以用IONPURE的IP-PRO设计软件确定 |
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流量
| 回收率 | 80% | 90% |
| 最小流量 gpm (m3/h) | 20 (4.5) | 23 (5.2) |
| 名义流量 gpm (m3/h) | 44 (10.0) | 50 (11.4) |
| 最大留恋 gpm (m3/h) | 56 (12.6) | 62 (14.1) |
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